《X線攝影化學及暗室技術》是為全國中等衛(wèi)生職業(yè)教育三年制醫(yī)學影像技術專業(yè)編寫的衛(wèi)生部規(guī)劃教材。教材是依據(jù)2001年6月衛(wèi)生行業(yè)教育教學指導委員會編制的《中等職業(yè)學校醫(yī)藥衛(wèi)生類專業(yè)教學計劃和教學大綱》，為培養(yǎng)與我國社會主義現(xiàn)代化建設要求相適應、德智體全面發(fā)展、具有綜合能力、在第一線工作的高素質中、初級醫(yī)學影像技術專門人才而編寫。教學時數(shù)為57學時。本教材增設了“激光打印技術”一章，便于學生掌握先進設備的有關技術知識，為適應實際工作打下良好的基礎。本書在編寫過程中，注意本專業(yè)的特點，力圖培養(yǎng)和訓練學生學會自學、善于思考，既重視基礎理論的學習，又重視基本實驗技能的訓練，不斷增強創(chuàng)新、獲取信息及終身學習的能力。
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