薄膜材料與薄膜技術(shù)（第二版）

第一章　真空技術(shù)基礎(chǔ)
第一節(jié)　真空的基本知識(shí)
一、表示真空程度的單位
二、真空區(qū)域的劃分
三、固體對(duì)氣體的吸附及氣體的脫附
第二節(jié)　真空的獲得
一、旋片式機(jī)械真空泵
二、復(fù)合分子泵
三、低溫泵
第三節(jié)　真空的測(cè)量
一、電阻真空計(jì)
二、熱偶真空計(jì)
三、電離真空計(jì)
　參考文獻(xiàn)
第二章　薄膜制備的化學(xué)方法
第一節(jié)　熱氧化生長(zhǎng)
第二節(jié)　化學(xué)氣相沉積
一、一般化學(xué)氣相沉積反應(yīng)
二、化學(xué)氣相沉積制備薄膜的傳統(tǒng)方法
三、激光化學(xué)氣相沉積
四、光化學(xué)氣相沉積
五、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
第三節(jié)　電鍍
第四節(jié)　化學(xué)鍍
第五節(jié)　陽(yáng)極反應(yīng)沉積
第六節(jié)　LB技術(shù)
　參考文獻(xiàn)
第三章　薄膜制備的物理方法
第一節(jié)　真空蒸發(fā)
一、真空蒸發(fā)沉積的物理原理
二、真空蒸發(fā)技術(shù)
第二節(jié)　濺射
一、濺射的基本原理
二、濺射鍍膜的特點(diǎn)
三、濺射參數(shù)
四、濺射裝置
第三節(jié)　離子束和離子助
一、離子鍍
二、陰極電弧等離子體沉積
三、熱空陰極槍蒸發(fā)
四、離子轟擊共沉積
五、非平衡磁控離子助沉積
六、離子束沉積
第四節(jié)　外延生長(zhǎng)
一、分子束外延（MBE）
二、液相外延生長(zhǎng)（LPE）
三、熱壁外延生長(zhǎng)（HWE）
四、有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積（MOCVD）
　參考文獻(xiàn)
第四章　薄膜的形成與生長(zhǎng)
第一節(jié)　形核
一、凝聚過(guò)程
二、LangmuIR-Frenkel凝聚理論
三、成核理論
四、實(shí)驗(yàn)結(jié)果
第二節(jié)　生長(zhǎng)過(guò)程
一、一般描述
二、類液體合并
三、沉積參數(shù)的影響
第三節(jié)　薄膜的生長(zhǎng)模式
第四節(jié)　遠(yuǎn)離平衡態(tài)薄膜生長(zhǎng)
一、粗糙表面的結(jié)構(gòu)和生長(zhǎng)
二、簡(jiǎn)單模型
三、薄膜生長(zhǎng)模型的實(shí)驗(yàn)研究
　參考文獻(xiàn)
第五章　薄膜表征
第一節(jié)　薄膜厚度控制及測(cè)量
一、沉積率和厚度監(jiān)測(cè)儀
　……
第六章　薄膜材料
參考文獻(xiàn)