光學(xué)干涉薄膜

　　本書覆蓋了現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)中最基本的干涉光學(xué)簿膜當(dāng)膠所有的研究領(lǐng)域，是為具有工程和大學(xué)水平的新光學(xué)從業(yè)者和專家撰寫的，也是為科學(xué)與工程學(xué)科的大學(xué)高年級學(xué)生撰寫的，目的是全面提供光學(xué)簿膜領(lǐng)域的完整認(rèn)識，反映光學(xué)薄膜動態(tài)和快速變化的特點(diǎn)。本書共有18章，涉及干涉薄膜廣泛主題，第章都由專家撰寫和評論，提供權(quán)威信息。這些專題包括（而不只限于）自然薄膜、光子晶體結(jié)構(gòu)、光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、鍍膜材料、薄膜生長、大小尺寸基板上光學(xué)薄制備、光學(xué)薄膜表征、光學(xué)薄膜應(yīng)力、光學(xué)薄膜微小元件、DUV/VUV/EUV薄膜、超快光學(xué)、顯示系統(tǒng)用光學(xué)薄膜、超敏感熒光應(yīng)用、抗激光損傷薄膜、自由電子激光用薄膜以及塑料鍍膜等。本書以一種邏輯順序介紹了光學(xué)薄膜領(lǐng)域基礎(chǔ)理論和最新研究成果，每章末還給出大量參考文獻(xiàn)。

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