同步輻射X射線應(yīng)用技術(shù)概論

第1章 同步輻射光源概述
1.1 引言
1.2 光源的原理和發(fā)展簡史
1.3 光源主體結(jié)構(gòu)的構(gòu)造
1.3.1 直線加速器
1.3.2 電子同步加速器和電子回旋加速器
1.3.3 電子儲存環(huán)
1.4 光束線和線束設(shè)備
1.4.1 光束線的引出和前段區(qū)
1.4.2 線束設(shè)備
1.5 計算機控制
1.5.1 光源部分的計算機控制
1.5.2 計算機控制系統(tǒng)的軟件結(jié)構(gòu)
1.5.3 電子束和光束線中束流參數(shù)的測量和控制
1.6 光源的主要特征
1.7 實驗站和應(yīng)用實驗技術(shù)分類及應(yīng)用領(lǐng)域
1.7.1 光束線和實驗站的分類
1.7.2 應(yīng)用實驗技術(shù)分類和應(yīng)用領(lǐng)域
1.8 應(yīng)用實驗研究課題的準備、申請和實施
1.8.1 細致做好實驗研究課題的準備工作
1.8.2 認真提出實驗研究課題的申請報告
1.8.3 準時赴同步輻射實驗站做實驗
參考文獻
第2章 同步輻射中衍射術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ)
2.1 高分辨粉末衍射和多晶樣品的結(jié)構(gòu)測定
2.1.1 高分辨X射線粉末衍射術(shù)
2.1.2 多晶樣品衍射花樣的Rietveld結(jié)構(gòu)精修
2.1.3 多晶樣品結(jié)構(gòu)測定從頭計算法
2.2 六圓衍射儀、勞厄法和單晶樣品的結(jié)構(gòu)測定
2.2.1 X射線單晶六圓衍射儀
2.2.2 單晶結(jié)構(gòu)測定的勞厄法
2.2.3 面探測器在單晶樣品結(jié)構(gòu)測定中的應(yīng)用
2.2.4 單晶結(jié)構(gòu)測定的相角問題及其解
2.2.5 單晶結(jié)構(gòu)的精修
2.2.6 單晶結(jié)構(gòu)測定小結(jié)
2.3 掠入射X射線衍射和表面結(jié)構(gòu)
2.3.1 掠入射X射線衍射術(shù)
2.3.2 原子尺度薄膜的研究
2.3.3 工程薄膜和多層膜的研究
2.4 多重衍射及其應(yīng)用
2.4.1 多重衍射的基本原理
2.4.2 獲得多重衍射花樣的實驗方法
2.4.3 多重衍射的某些應(yīng)用
2.5 X射線異常衍射和差分衍射
2.5.1 異常散射和選擇元素衍射
2.5.2 相角測定的異常衍射法
2.5.3 晶體學(xué)中分攤位置問題
2.5.4 異常寬角衍射和粉末差分衍射
2.6 能量色散衍射
2.6.1 波長色散衍射和能量色散衍射
2.6.2 能量色散衍射的兩種工作模式及其比較
2.6.3 波長色散和能量色散衍射方法的比較
2.7 特殊條件下衍射實驗研究
參考文獻
第3章 同步輻射中散射術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ)
3.1 小角X射線散射
3.1.1 小角X射線散射的實驗裝置
3.1.2 粒子的形狀、大小完全相同時小角散射強度及其分布的Guinier近似
3.1.3 樣品中粒子形狀相同但大小不同時的散射強度
3.1.4 顆粒大小及其分布的測定
3.1.5 納米材料分形結(jié)構(gòu)研究
3.1.6 二維小角X射線散射
3.1.7 異常小角X射線散射
3.2 廣角X射線散射和廣角X射線異常散射
3.2.1 全徑向分布函數(shù)的廣角X射線散射測定
3.2.2 廣角X射線異常散射部分徑向分布函數(shù)測定
3.3 X射線非彈性散射與物質(zhì)動態(tài)結(jié)構(gòu)的研究
3.3.1 動態(tài)結(jié)構(gòu)研究理論基礎(chǔ)簡介
3.3.2 X射線非彈性散射的實驗方法
3.3.3 動力學(xué)結(jié)構(gòu)的非彈性散射研究
3.4 其他散射術(shù)及其應(yīng)用
3.4.1 漫散射測定
3.4.2 磁散射和磁衍射
3.4.3 拉曼散射
參考文獻
第4章 同步輻射中光譜術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ)
4.1 X射線發(fā)射譜及其精細結(jié)構(gòu)
4.1.1 X射線發(fā)射譜
4.1.2 X射線發(fā)射譜化學(xué)分析
4.1.3 X射線發(fā)射譜的精細結(jié)構(gòu)
4.2 X射線吸收譜和近限結(jié)構(gòu)
4.2.1 吸收限
4.2.2 用X射線吸收譜的化學(xué)定性定量分析
4.2.3 X射線吸收近限結(jié)構(gòu)
4.3 擴展 射線吸收精細結(jié)構(gòu)
4.3.1 EXAFS的基本原理
4.3.2 EXAFS譜的測量方法
4.3.3 局域結(jié)構(gòu)研究
4.3.4 原子價態(tài)的研究
4.4 俄歇電子能譜
4.4.1 俄歇電子的能量和強度
4.4.2 用俄歇電子譜的元素定性定量分析
4.4.3 用俄歇電子譜的元素化學(xué)價態(tài)研究
4.5 光電子能譜
4.5.1 光電子能譜的能量和強度
4.5.2 X射線光電子能譜化學(xué)分析
4.5.3 光電子能譜的價態(tài)研究
4.5.4 光電子能譜的價態(tài)研究實例
4.6 軟X射線磁圓二色譜術(shù)
4.6.1 X射線磁圓二色的基本原理
4.6.2 軟X射線磁圓二色譜的實驗裝置
4.6.3 軟X射線磁圓二色譜實例
4.7 拉曼譜和非彈性散射譜
4.7.1 拉曼譜
4.7.2 非彈性散射譜
4.8 譜學(xué)聯(lián)合裝置
參考文獻
第5章 同步輻射中成像術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ)
5.1 基于吸收襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用
5.1.1 吸收襯度原理
5.1.2 人體的X射線透視檢查
5.1.3 材料的X射線探傷
5.1.4 軟X射線心血管造影
5.1.5 在安檢方面的應(yīng)用
5.2 計算機輔助層析成像術(shù)
5.2.1 X射線CT成像原理
5.2.2 人體CT檢查
5.2.3 CT在材料和礦樣中的應(yīng)用
5.3 衍射襯度成像術(shù)及其應(yīng)用
5.3.1 X射線貌相術(shù)
5.3.2 貌相圖像的直接顯示
5.3.3 衍襯貌相圖中缺陷像的分析方法
5.4 基于相位襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用
5.4.1 相位襯度原理
5.4.2 X射線干涉相襯成像方法
5.5 X射線全息成像術(shù)
5.5.1 全息術(shù)的工作原理
5.5.2 X射線全息術(shù)的實驗要求
5.5.3 X射線全息的記錄方式
5.6 三位一體成像術(shù)和明場像、暗場像
5.7 其他譜學(xué)成像術(shù)
參考文獻
第6章 同步輻射中光刻、微細加工等技術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ)
6.1 引言
6.2 X射線光刻的一般原理
6.3 光刻對同步輻射光源和光束線的要求
6.4 X射線光刻掩模和光刻膠
6.4.1 X射線光刻掩模
6.4.2 X射線光刻膠
6.5 X射線光刻裝置——Stepper
6.6 微細加工新技術(shù)——UGA
6.6.1 LIGA技術(shù)工藝
6.6.2 深度光刻
6.6.3 國內(nèi)某些研究實例
6.7 同步輻射光化學(xué)術(shù)及其應(yīng)用
6.7.1 光化學(xué)刻蝕
6.7.2 光化學(xué)反應(yīng)低溫薄膜工藝
6.8 同步輻射輻照術(shù)及其應(yīng)用
6.8.1 輻照改性
6.8.2 輻照育種
參考文獻