大塑性變形及材料微結構表征

前言
第1章 大塑性變形制備超細晶材料概述
1．1 大塑性變形的原理和工藝
1．1．1 大塑性變形的基本原理
1．1．2 SPD工藝簡介
1．2 有關大塑性變形的理論研究
1．2．1 細化機制
1．2．2 SPD過程中形成的顯微織構
1．2．3 強化機制
1．2．4 SPD過程對第二相的影響
參考文獻
第2章 X射線衍射分析的理論基礎和應用
2．1 X射線衍射分析理論基礎
2．1．1 晶體結構一一點陣、晶胞和原子坐標
2．1．2 晶體學中的對稱操作元素
2．1．3 晶系、點群和空間群
2．1．4 布拉格衍射定律
2．1．5 X射線衍射強度理論基礎
2．2 衍射樣品的制備
2．3 X射線衍射分析的應用
2．3．1 晶粒大小和品格畸變的分析
2．3．2 殘余應力分析
2．3．3 X射線短波長應力測試的新技術和新裝備
2．3．4 結晶度的計算
2．3．5 小角X射線散射
2．3．6 人造超品格的測定
2．3．7 薄膜試樣的測定
2．3．8 物相的定量分析
2．3．9 新物相衍射峰的指標化
參考文獻
第3章 粉末衍射晶體結構精修
3．1 全譜擬合的理論要點
3．1．1 峰形函數
3．1．2 峰寬函數Hk
3．1．3 背景函數Yib
3．1．4 擇優(yōu)取向校正
3．2 粉末衍射全譜擬合實驗基礎一一高分辨、高準確的數字粉末衍射譜
3．3 從頭晶體結構測定
3．3．1 X射線衍射測定單晶結構的一般步驟與傳統(tǒng)粉末法的困難
3．3．2 粉末衍射測定晶體結構的步驟
3．3．3 粉末衍射從頭晶體結構測定舉例
3．3．4 Fullprof運行演示
3．4 全譜擬合法在物相分析中的應用
3．4．1 物相定性分析
3．4．2 物相定量分析
參考文獻
第4章 X射線衍射宏觀織構表征
4．1 織構的定義、分類命名和測試
4．2 極圖的常規(guī)分析
4．3 立方晶系中任意織構的理論極圖計算及常見織構的標準極圖
4．3．1 理論極圖的計算
4．3．2 常見織構的標準極圖
4．3．3 部分理論極圖織構的實測驗證
4．4 反極圖的定義與分析
4．5 織構的0DF表示法
4．6 0DF分析結果的驗算及0DF截面圖的特征
4．7 采集極圖數據的實驗技巧
參考文獻
第5章 金屬材料在加工中的織構與性能
5．1 立方晶體生長織構
5．1．1 定向凝固Au鑄態(tài)織構
5．1．2 化學氣相沉積Ta晶體織構
5．1．3 離子濺射Ag織構
5．1．4 電鍍Au織構
5．2 立方結構金屬的變形織構和退火織構
5．2．1 鍛壓、擠壓和拉拔形成的變形織構和退火織構
5．2．2 軋制變形織構和退火織構
5．3 織構對抗拉強度的影響
5．3．1 AgCu28合金和純Ag金相組織
5．3．2 AgCu28合金和純Ag的抗拉強度的各向異性
5．4 面心立方金屬材料織構與滑移系的關系
5．4．1 面心立方晶體塑性變形時織構與滑移系的關系
5．4．2 外力F沿（215）方向時滑移系的計算
5．4．3 立方織構、剪切織構和銅織構的滑移系計算
參考文獻
第6章 EBSD微觀織構的表征
6．1 EBsD分析中常用的術語
6．2 EBsD樣品制備方法
6．3 EBSD分析數據的采集
6．4 EBSD分析實例
參考文獻
第7章 透射電子衍射斑點分析
7．1 標定花樣前需要注意的問題
7．2 花樣特征
7．3 多晶電子衍射譜的標定
7．4 單晶帶或零階勞厄帶花樣的指數標定
7．5 多晶帶、高階勞厄帶衍射花樣的標定
7．6 透射電鏡電子衍射花樣的應用
參考文獻
第8章 掃描電子顯微鏡觀測指南
8．1 圖像干擾類型
8．2 電子探針和試樣的相互作用對圖像質量的影響
8．2．1 加速電壓
8．2．2 束流、束斑直徑
8．2．3 邊緣效應
8．2．4 試樣傾斜
8．2．5 背散射電子信號
8．2．6 充電
8．2．7 電子束
8．2．8 污染
8．3 操作技術、樣品制備技術、外部干擾等對圖像質量的影響
8．3．1 工作距離和物鏡光闌
8．3．2 像散
8．3．3 顯微圖片對比度和亮度
8．3．4 為獲得X射線圖像的曝光時間
8．3．5 外部干擾
8．3．6 試樣制備過程中的變形和雜質沉積
8．3．7 圖像畸變及其原因
8．3．8 涂層
8．4 設備缺陷對圖像質量的影響
8．4．1 燈絲預熱不夠
8．4．2 不正確的像散和物鏡光闌對中
8．4．3 探頭的10kV放電
8．4．4 燒壞或骯臟的CRT表面
8．5 技術術語
參考文獻
第9章 國產現代分析儀器的進展
9．1 國產短波長X射線衍射應力無損分析儀
9．2 國產X射線衍射儀
9．3 國產掃描電鏡
附錄
附錄A Fullprof-Suite軟件的介紹
附錄B Orientation Imaging Microscopy相關知識