脈沖激光沉積類(lèi)金剛石膜技術(shù)

定　價(jià)：￥168.00

作　者：	程勇等著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787030515513	出版時(shí)間：	2017-05-01	包裝：	精裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：		字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　脈沖激光沉積技術(shù)是一種研究和開(kāi)發(fā)新型高性能材料的有效途徑，在制備新型碳材料——類(lèi)金剛石膜方面，以其獨(dú)有的特點(diǎn)，逐漸顯現(xiàn)出填補(bǔ)傳統(tǒng)技術(shù)空白的優(yōu)勢(shì)。但是，脈沖激光沉積技術(shù)制備的類(lèi)金剛石膜也存在一些固有的缺陷，如內(nèi)應(yīng)力大、大面積不均勻等問(wèn)題。如何采用脈沖激光沉積技術(shù)制備出具有工程應(yīng)用價(jià)值的類(lèi)金剛石膜，一直是國(guó)內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域研究者的目標(biāo)。程勇等編著的《脈沖激光沉積類(lèi)金剛石膜技術(shù)》共7章內(nèi)容。從介紹類(lèi)金剛石膜性質(zhì)、組成、制備及應(yīng)用入手，闡述脈沖激光沉積技術(shù)及其在制備類(lèi)金剛石膜方面的機(jī)理和優(yōu)點(diǎn)、缺點(diǎn)，以及類(lèi)金剛石膜的測(cè)試與表征；詳細(xì)討論激光參數(shù)、基底狀態(tài)、靶材種類(lèi)以及環(huán)境氣氛等因素對(duì)類(lèi)金剛石膜性能的影響，偏重于闡述摻雜、退火、膜層結(jié)構(gòu)及雙激光技術(shù)等類(lèi)金剛石膜降低內(nèi)應(yīng)力、提高膜層各種性能的改性技術(shù)；針對(duì)類(lèi)金剛石膜的工程應(yīng)用中存在的大面積不均勻、制備效率低的現(xiàn)實(shí)問(wèn)題，展現(xiàn)多功能激光沉積系統(tǒng)，闡述脈沖激光沉積大尺寸均勻平面和球面類(lèi)金剛石膜的裝置、模型及實(shí)驗(yàn)；最后介紹脈沖激光沉積技術(shù)在制備其他功能薄膜方面的應(yīng)用，展望該技術(shù)未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)和前景?！睹}沖激光沉積類(lèi)金剛石膜技術(shù)》可供從事激光沉積技術(shù)和類(lèi)金剛石膜相關(guān)的研究和應(yīng)用人員閱讀和參考，也可供高等院校光學(xué)、激光、材料、機(jī)械和電子等相關(guān)專(zhuān)業(yè)的學(xué)生參考。

作者簡(jiǎn)介

　　程勇，江西玉山人，武漢軍械士官學(xué)校光電技術(shù)研究所所長(zhǎng)、教授。1982年石家莊高級(jí)軍械學(xué)校畢業(yè)，2002年獲中國(guó)科學(xué)院安徽光學(xué)精密機(jī)械研究所光學(xué)專(zhuān)業(yè)博士學(xué)位，2004年中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)高級(jí)訪問(wèn)學(xué)者，2007年赴英國(guó)皇家科學(xué)院訪問(wèn)。中國(guó)固體激光工程和光電裝備保障專(zhuān)家，全軍專(zhuān)業(yè)技術(shù)重大貢獻(xiàn)獎(jiǎng)及政府特殊津貼獲得者，被授予“全國(guó)優(yōu)秀科技工作者”榮譽(yù)稱(chēng)號(hào)。現(xiàn)任中國(guó)光學(xué)工程學(xué)會(huì)常務(wù)理事、中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光電專(zhuān)業(yè)委員會(huì)常委，《紅外與激光工程》《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》等雜志編委。　主要從事固體激光工程與器件、光電裝備保障和新慨念激光技術(shù)等領(lǐng)域的研究，“免調(diào)試固體激光”“互注入相干合成”“激光沉積光學(xué)窗口類(lèi)金剛石膜”“雙波長(zhǎng)自由切換激光器”“OPO人眼安全激光器”等研究成果得到了學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的充分肯定，在裝備中得到廣泛應(yīng)用。獲國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)1項(xiàng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)3項(xiàng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)4項(xiàng)，編寫(xiě)《免凋試固體激光器》等專(zhuān)著3部，發(fā)表學(xué)術(shù)論文100余篇，獲得授權(quán)專(zhuān)利24項(xiàng)，榮立二等功2次。

圖書(shū)目錄

序
前言
第1章類(lèi)金剛石薄膜概述
1．1 類(lèi)金剛石膜的定義及性能
1．1．1 類(lèi)金剛石膜的定義
1．1．2 類(lèi)金剛石膜的性能
1．2 類(lèi)金剛石膜的制備方法
1．2．1 物理氣相沉積方法
1．2．2 化學(xué)氣相沉積方法
1．2．3 液相沉積方法
1．3 類(lèi)金剛石膜的應(yīng)用
1．3．1 光學(xué)應(yīng)用
1．3．2 機(jī)械應(yīng)用
1．3．3 電學(xué)應(yīng)用
1．3．4 醫(yī)學(xué)應(yīng)用
1．3．5 其他應(yīng)用
1．4 類(lèi)金剛石膜研究難題及其改進(jìn)技術(shù)
1．4．1 類(lèi)金剛石膜研究中存在的難題
1．4．2 常見(jiàn)類(lèi)金剛石膜改性技術(shù)
1．4．3 類(lèi)金剛石膜研究展望
參考文獻(xiàn)
第2章激光沉積法制備類(lèi)金剛石膜的機(jī)理
2．1 激光沉積法的原理
2．2 激光沉積類(lèi)金剛石膜及類(lèi)石墨膜的理論模型
2．2．1 “淺注入（亞種植）”生長(zhǎng)模型
2．2．2 “能量淬滅”生長(zhǎng)模型
2．2．3 “熱峰”生長(zhǎng)模型
2．2．4 “離子刻蝕”生長(zhǎng)模型
2．3 激光沉積薄膜的誘導(dǎo)等離子體
2．3．1 激光等離子體的形成與擴(kuò)展
2．3．2 激光等離子體膨脹的動(dòng)力學(xué)
2．3 -3 等離子體的空間分布和飛行時(shí)間
2．3．4 等離子體的光譜特性
2．3．5 輔助氣體對(duì)激光誘導(dǎo)等離子體的影響
2．4 激光沉積法制備類(lèi)金剛石膜的優(yōu)缺點(diǎn)
2．4．1 激光沉積法制備類(lèi)金剛石膜的優(yōu)點(diǎn)
2．4．2 PLD法制備類(lèi)金剛石膜的主要缺點(diǎn)及改進(jìn)措施
參考文獻(xiàn)
第3章類(lèi)金剛石膜的性能測(cè)試與表征
3．1 傅里葉紅外光譜
3．2 拉曼光譜
3．3 納米硬度
3．4 X射線光電子能譜
3．5 橢偏光譜
3．6 表面形貌
3．6．1 掃描電子顯微鏡
3．6．2 原子力顯微鏡
3．7 摩擦磨損
3．8 薄膜應(yīng)力
3．8．1 基片變形法
3．8．2 X射線衍射法
3．8．3 拉曼光譜法
3．9 膜基附著強(qiáng)度
3．9．1 納米劃痕法
3．9．2 納米壓痕法
3．9．3 刮剝法
3．9．4 拉伸法
3．9．5 抗剪切強(qiáng)度檢測(cè)法
3．10 環(huán)境試驗(yàn)
3．10．1 牢固度試驗(yàn)
3．10．2 溫度試驗(yàn)
3．10．3 侵蝕試驗(yàn)
3．10．4 其他試驗(yàn)
參考文獻(xiàn)
第4章激光沉積法制備類(lèi)金剛石膜的影響因素
4．1 激光參數(shù)
4．1．1 激光波長(zhǎng)
4．1．2 激光脈寬
4．1．3 激光功率密度
4．1．4 其他參數(shù)
4．2 靶材性質(zhì)
4．2．1 常規(guī)固體靶材
4．2．2 其他種類(lèi)靶材
4．3 氣氛環(huán)境
4．3．1 氫氣氛環(huán)境
4．3．2 氮?dú)夥窄h(huán)境
4．3．3 氧氣氛環(huán)境
4．3．4 惰性氣體環(huán)境
4．4 基底狀態(tài)
4．4．1 基底偏壓
4．4．2 基底溫度
4．4．3 基底傾斜
4．4．4 基底預(yù)處理
參考文獻(xiàn)
第5章激光沉積法制備類(lèi)金剛石膜的性能改進(jìn)技術(shù)
5．1 元素?fù)诫s
5．1．1 金屬摻雜DLC膜
5．1．2 非金屬摻雜DLC膜
5．1．3 化合物摻雜DLC膜
5．2 退火后處理
5．2．1 高溫?zé)嵬嘶?br />5．2．2 激光退火
5．3 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
5．3．1 周期性結(jié)構(gòu)膜層
5．3．2 緩沖過(guò)渡層
5．3．3 基底預(yù)處理
5．4 雙激光沉積技術(shù)
5．4．1 雙激光沉積雙層膜
5．4．2 雙激光沉積摻雜膜
5．5 同步雙脈沖沉積技術(shù)
5．5．1 雙脈沖同步延時(shí)沉積
5．5．2 激光輻照等離子體沉積
參考文獻(xiàn)
第6章脈沖激光沉積類(lèi)金剛石膜工程化研究
6．1 PLD系統(tǒng)的工程化應(yīng)用
6．1．1 多功能設(shè)計(jì)
6．1．2 產(chǎn)業(yè)化設(shè)計(jì)
6．2 大尺寸基底均勻鍍膜
6．2．1 大尺寸平面
6．2．2 大尺寸球面
6．3 硫化鋅窗口DLC增透保護(hù)膜
6．3．1 研究目標(biāo)及方案設(shè)計(jì)
6．3．2 復(fù)合膜系（過(guò)渡層）設(shè)計(jì)
6．3．3 梯度摻雜DLC保護(hù)膜設(shè)計(jì)
6．3．4 硫化鋅樣品的綜合性能
參考文獻(xiàn)
第7章脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用及展望
7．1 脈沖激光沉積技術(shù)制備功能薄膜
7．1．1 透明導(dǎo)電氧化物薄膜
7．1．2 高溫超導(dǎo)薄膜
7．1．3 鐵性薄膜
7．1．4 金屬薄膜
7．1．5 電化學(xué)薄膜
7．1．6 摩擦力學(xué)薄膜
7．1．7 光波導(dǎo)薄膜
7．1．8 其他功能薄膜
7．1．9 小結(jié)
7．2 脈沖激光沉積技術(shù)展望
7．2．1 超短脈沖與高重頻激光
7．2．2 雙／多激光沉積技術(shù)
7．2．3 結(jié)合其他沉積技術(shù)
7．3 激光等離子-原子層沉積系統(tǒng)
參考文獻(xiàn)