光學(xué)真空鍍膜技術(shù)

定　價(jià)：￥46.00

作　者：	石澎，馬平著
出版社：	機(jī)械工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787111693567	出版時(shí)間：	2022-03-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：		字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　近些年，隨著手機(jī)、汽車(chē)、安防監(jiān)控等光學(xué)鏡頭終端市場(chǎng)的規(guī)模化、持續(xù)性擴(kuò)張，對(duì)光學(xué)薄膜的需求也越來(lái)越多，光學(xué)真空鍍膜技能型人才供不應(yīng)求的局面日益凸顯。本書(shū)以弱化理論、側(cè)重實(shí)踐與技能為原則，按照工序?qū)⒐鈱W(xué)真空鍍膜技術(shù)分為光學(xué)鍍膜基礎(chǔ)與膜系設(shè)計(jì)、光學(xué)薄膜制備技術(shù)、光學(xué)薄膜檢測(cè)技術(shù)三部分，對(duì)應(yīng)光學(xué)薄膜制備的三個(gè)核心流程，基于工作過(guò)程和典型工作任務(wù)設(shè)置單元和內(nèi)容，使書(shū)中內(nèi)容與職業(yè)崗位要求相匹配。本書(shū)可作為高職、中職院校光學(xué)相關(guān)專(zhuān)業(yè)的課程教材，也可供相關(guān)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員學(xué)習(xí)參考。

作者簡(jiǎn)介

　　主編國(guó)家職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《光學(xué)真空鍍膜工》、參編《光學(xué)零件檢查工》（排名第三）。主持市級(jí)科技課題2項(xiàng)；主持橫向課題2項(xiàng)（經(jīng)費(fèi)共計(jì)6.5萬(wàn)元）；主持校級(jí)科研、教改課題共計(jì)3項(xiàng)；獲寧波市第三屆自然科學(xué)優(yōu)秀學(xué)術(shù)論文一等獎(jiǎng)。獲浙江省職業(yè)院校技能大賽教學(xué)能力比賽高職組課堂教學(xué)省級(jí)三等獎(jiǎng)（排名）、第四屆教學(xué)成果獎(jiǎng)比賽校級(jí)一等獎(jiǎng)（排名）。

圖書(shū)目錄

前言
第1章光學(xué)鍍膜基礎(chǔ)1
1.1光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)1
1.1.1平面電磁波在單一界面上的反射和折射1
1.1.2菲涅爾公式2
1.1.3光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算8
1.2光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)12
1.2.1增透膜的設(shè)計(jì)12
1.2.2高反膜的設(shè)計(jì)16
1.2.3分光膜的設(shè)計(jì)18
1.2.4干涉濾光片21
1.3光學(xué)薄膜材料26
1.3.1金屬薄膜材料26
1.3.2介質(zhì)和半導(dǎo)體薄膜材料28
1.3.3金屬膜與介質(zhì)膜的比較33

第2章光學(xué)薄膜制備技術(shù)34
2.1真空及真空設(shè)備34
2.1.1真空技術(shù)知識(shí)及主要術(shù)語(yǔ)定義34
2.1.2獲得真空所需的設(shè)備40
2.1.3真空的測(cè)量47
2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝51
2.2.1熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)理介紹51
2.2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝分類(lèi)61
2.2.3離子束輔助沉積工藝介紹69
2.2.4影響熱蒸發(fā)鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)74
2.3濺射鍍膜工藝85
2.3.1濺射鍍膜機(jī)理介紹85
2.3.2濺射鍍膜工藝分類(lèi)86
2.3.3影響濺射鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)114

第3章光學(xué)薄膜檢測(cè)技術(shù)118
3.1光學(xué)薄膜反射率和透過(guò)率測(cè)量118
3.1.1光譜分析測(cè)試系統(tǒng)原理118
3.1.2薄膜透過(guò)率測(cè)量120
3.1.3薄膜反射率測(cè)量121
3.1.4影響測(cè)量準(zhǔn)確度的因素122
3.2光學(xué)薄膜厚度的測(cè)量123
3.2.1干涉法測(cè)量薄膜厚度123
3.2.2輪廓法測(cè)量薄膜厚度124
3.2.3其他測(cè)量方法125
3.3光學(xué)薄膜激光損傷閾值測(cè)量125
3.3.1光學(xué)薄膜損傷測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)及判定125
3.3.2幾類(lèi)激光損傷閾值測(cè)量方法介紹125
3.3.3激光損傷測(cè)試裝置126
3.3.4 1 on 1損傷測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)過(guò)程127
3.4光學(xué)薄膜其他參數(shù)測(cè)量128
3.4.1薄膜的吸收和散射測(cè)量128
3.4.2薄膜材料折射率測(cè)量131
3.4.3薄膜散射測(cè)量133
3.4.4薄膜折射率測(cè)量135
參考文獻(xiàn)138