機(jī)載高分辨率面陣攝影測量技術(shù)與應(yīng)用

定　價(jià)：￥188.00

作　者：	方勇等著
出版社：	國防工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787118123159	出版時(shí)間：	2021-07-01	包裝：	平裝-膠訂
開本：	16開	頁數(shù)：	556	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書跟蹤當(dāng)前機(jī)載高分辨率面陣測繪相機(jī)技術(shù)發(fā)展趨勢，結(jié)合我國航空攝影測量發(fā)展特點(diǎn)，介紹了國內(nèi)外機(jī)載大面陣測繪相機(jī)技術(shù)的研究現(xiàn)狀，分析了機(jī)載面陣測繪攝影原理和基礎(chǔ)，詳細(xì)闡述了國際上主流高分辨率面陣航空攝影技術(shù)體制分析、兩種新體制國產(chǎn)高分辨率面陣測繪相機(jī)技術(shù)、大視場高精度相機(jī)參數(shù)標(biāo)校理論與方法、面陣攝影數(shù)據(jù)高效預(yù)處理技術(shù)、面陣攝影數(shù)據(jù)測繪應(yīng)用技術(shù)等，內(nèi)容涵蓋了面陣測繪相機(jī)、攝影數(shù)據(jù)獲取處理、攝影數(shù)據(jù)應(yīng)用等完整系統(tǒng)工作流程和數(shù)據(jù)流程所涉及的技術(shù)環(huán)節(jié)，融合了現(xiàn)代攝影測量與遙感、計(jì)算機(jī)視覺、高性能并行計(jì)算等領(lǐng)域的相關(guān)技術(shù)發(fā)展成果

作者簡介

　　方勇，男，西安測繪研究所研究員。長期從事攝影測量與遙感技術(shù)研究和裝備研制工作，現(xiàn)任西安測繪研究所地理信息工程國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室主任，“高分辨率對地觀測系統(tǒng)”科技專項(xiàng)專家，衛(wèi)星應(yīng)用專業(yè)組專家，測繪導(dǎo)航總體技術(shù)組組長，獲國家科學(xué)技術(shù)發(fā)明二等獎1項(xiàng)、省部級科技進(jìn)步獎10項(xiàng)，發(fā)明專利兩項(xiàng)、發(fā)表學(xué)術(shù)論文三十余篇。暫時(shí)沒有目錄，請見諒！

圖書目錄

第1章概述
11從模擬膠片相機(jī)到數(shù)字航測相機(jī)·
1.1.1 航測相機(jī)發(fā)展歷程
11.2 數(shù)字航測相機(jī)分類與特點(diǎn)
1.2 應(yīng)用領(lǐng)域與要求
1.3 國外發(fā)展現(xiàn)狀
1.3.1DMC系列相機(jī)
13.2 Ultra CAM系列相機(jī)
1.4國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
1.4.1 SWDC 相機(jī)
1.4.2 DMZ 相機(jī)
1.5小結(jié)
第2章機(jī)載面陣攝影測量原理
21 攝影與航空攝影
2.1.1 幾個(gè)概念的確立
2.1.2 攝影的光學(xué)基礎(chǔ)
2.1.3 重要數(shù)字傳感器成像參數(shù)
2.1.4 航空攝影一般要求
2.2 航空攝影測量原理
2.2.1 單張影像解析原理
2.2.2 立體影像解析原理
2.2.3 空中三角測量原理
2.2.4 航空攝影測量理論精度分析
2.3 數(shù)字航空相機(jī)基本組成
第3章大面陣攝影測量相機(jī)技術(shù)體制
3.1 多相機(jī)外視場拼接技術(shù)體制
3.1.1 基本原理
3.1.2 數(shù)據(jù)處理流程·
3.1.3 虛擬影像幾何特性分析
3.2多相機(jī)內(nèi)視場拼接技術(shù)體制
3.2.1 基本原理
3.2.2數(shù)據(jù)處理流程·
3.3面陣步進(jìn)擺掃拼接技術(shù)體制
3.3.1 基本原理
3.3.2 數(shù)據(jù)處理流程及特點(diǎn)
3.4單鏡頭多面陣內(nèi)視場拼接技術(shù)體制
3.4.1基本原理
3.4.2 設(shè)計(jì)特性分析
3.5 單鏡頭超大面陣技術(shù)體制
3.5.1CCD傳感器
3.5.2CMOS傳感器
3.6 多視角攝影技術(shù)體制
3.6.1 基本原理
3.6.2 主要特性分析
3.6.3主要技術(shù)流程
3.6.4 發(fā)展趨勢
3.7 小結(jié)
3.7.1使用性能比較分析
3.7.2 發(fā)展趨勢及啟示
第4章光學(xué)拼接大面陣攝影測量相機(jī)
4.1 基本原理
4.2 系統(tǒng)組成
……
第5章相機(jī)參數(shù)靜態(tài)檢校
第6章相機(jī)參數(shù)動態(tài)檢校
第7章面陣攝影數(shù)據(jù)預(yù)處理
第8章面陣攝影測量應(yīng)用
第9章發(fā)展趨勢與前景分析
參考文獻(xiàn)
附錄