光學(xué)元件磁流變拋光理論與關(guān)鍵技術(shù)

第1章 緒論
1．1 研究背景和意義
1．1．1 高精度光學(xué)鏡面的需求
1．1．2 高精度光學(xué)鏡面拋光方法
1．1．3 本書研究的意義
1．2 磁流變拋光國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1．2．1 磁流變拋光技術(shù)發(fā)展過(guò)程
1．2．2 磁流變拋光技術(shù)國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀
1．2．3 磁流變拋光關(guān)鍵技術(shù)與研究熱點(diǎn)
1．3 主要研究?jī)?nèi)容
第2章 磁流變拋光系統(tǒng)
2．1 計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形原理
2．1．1 計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形的理論基礎(chǔ)
2．1．2 計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形工藝對(duì)磁流變拋光系統(tǒng)的基本要求
2．2 KDMRF-1000F系統(tǒng)組成與性能分析
2．2．1 系統(tǒng)組成及主要性能
2．2．2 多軸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)性能分析
2．2．3 循環(huán)控制系統(tǒng)性能分析
2．2．4 磁流變液配制與性能分析
第3章 磁流變拋光區(qū)域流體動(dòng)力學(xué)分析與計(jì)算
3．1 Bingham流體動(dòng)力學(xué)基本方程
3．2 拋光區(qū)域磁流變液成核狀態(tài)分析
3．3 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
第4章 磁流變拋光表面與亞表面質(zhì)量實(shí)驗(yàn)分析
4．1 磁流變拋光表面質(zhì)量實(shí)驗(yàn)分析
4．1．1 磁流變拋光表面質(zhì)量影響因素分析
4．1．2 常見光學(xué)材料磁流變拋光表面粗糙度
4．2 磁流變拋光亞表面損傷實(shí)驗(yàn)分析
4．2．1 磁流變消除磨削亞表面裂紋層實(shí)驗(yàn)分析
4．2．2 磁流變消除傳統(tǒng)拋光亞表面損傷實(shí)驗(yàn)分析
第5章 磁流變修形駐留時(shí)間高精度求解與實(shí)現(xiàn)
5．1 磁流變修形過(guò)程評(píng)價(jià)指標(biāo)
5．2 磁流變修形駐留時(shí)間求解算法
5．2．1 線性方程組模型
5．2．2 加權(quán)非負(fù)廣義最小殘差算法
5．2．3 駐留時(shí)間求解仿真分析
5．3 基于運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)動(dòng)態(tài)性能的駐留時(shí)間實(shí)現(xiàn)方法
5．4 駐留時(shí)間求解與實(shí)現(xiàn)的聯(lián)合優(yōu)化
5．5 駐留時(shí)間求解與實(shí)現(xiàn)的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
5．5．1 線性掃描加工路徑
5．5．2 極軸掃描加工路徑
5．6 基于熵增原理抑制磁流變修形中高頻誤差
5．6．1 基于熵增原理的局部隨機(jī)加工路徑
5．6．2 實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
……
第6章 高精度光學(xué)鏡面磁流變拋光試驗(yàn)
第7章 離軸非球面加工技術(shù)簡(jiǎn)介
第8章 離軸非球面修形理論
第9章 去除函數(shù)多參數(shù)建模與實(shí)驗(yàn)分析
第10章 離軸非球面修形工藝
第11章 特征量參數(shù)測(cè)量與控制
第12章 加工工藝路線優(yōu)化及加工實(shí)例
參考文獻(xiàn)