難熔高熵合金材料設(shè)計與制備

目錄
“21世紀(jì)先進制造技術(shù)叢書”序
序
前言
第1章 緒論 1
1.1 難熔高熵合金的概念發(fā)展 1
1.2 難熔高熵合金的結(jié)構(gòu)與性能 2
1.2.1 難熔高熵合金的組織結(jié)構(gòu)特點 2
1.2.2 難熔高熵合金的力學(xué)性能特點 4
1.2.3 難熔高熵合金性能調(diào)控方法 6
1.3 難熔高熵合金的制備方法 7
1.4 難熔高熵合金的現(xiàn)存問題 8
1.5 難熔高熵合金未來研究方向 10
參考文獻 12
第2章 **性原理模擬與熱力學(xué)計算 21
2.1 **性原理方法概述 22
2.1.1 多粒子體系的薛定諤方程 22
2.1.2 Hohenberg-Kohn定理 22
2.1.3 Kohn-Sham方程 23
2.1.4 常用**性原理計算軟件 24
2.2 難熔高熵合金的結(jié)構(gòu)模型 26
2.2.1 超胞結(jié)構(gòu)模型 27
2.2.2 特殊準(zhǔn)隨機結(jié)構(gòu)模型 27
2.2.3 相干勢近似模型 29
2.2.4 晶格畸變 29
2.3 難熔高熵合金的力學(xué)性質(zhì)計算 33
2.3.1 單晶彈性常數(shù) 33
2.3.2 多晶彈性性質(zhì) 34
2.3.3 理想拉伸強度 36
2.4 熱力學(xué)相圖計算 38
2.4.1 相圖計算簡介 38
2.4.2 難熔高熵合金相圖 38
2.4.3 陶瓷相復(fù)合難熔高熵合金相圖 41
2.5 機器學(xué)習(xí)的性能預(yù)測及勢函數(shù) 44
2.5.1 難熔高熵合金機器學(xué)習(xí)的性能預(yù)測 44
2.5.2 機器學(xué)習(xí)勢在計算難熔高熵合金中的應(yīng)用 47
參考文獻 48
第3章 難熔高熵合金的強韌化設(shè)計 50
3.1 難熔高熵合金的強化機理 50
3.2 合金元素在難熔高熵合金中的作用機制 52
3.2.1 NbMoTaWZr難熔高熵合金組織結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能 52
3.2.2 NbMoTaWTi難熔高熵合金組織結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能 54
3.2.3 MoTaWRe難熔高熵合金組織結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能 57
3.3 陶瓷強化難熔高熵合金設(shè)計 58
3.3.1 碳化物陶瓷強化NbMoTaW難熔高熵合金 58
3.3.2 氮化物陶瓷強化NbMoTaW難熔高熵合金 65
3.4 NbMoTaWX(X = Ti，V，Cr，Zr，Hf，Re)難熔高熵合金計算與驗證 70
3.4.1 **性原理研究 71
3.4.2 微觀組織結(jié)構(gòu)及成分分析 84
3.4.3 力學(xué)性能分析 88
3.5 (NbTaW)100–xMox和(NbTaMo)100–xWx難熔高熵合金計算與驗證 90
3.5.1 **性原理研究 90
3.5.2 微觀組織結(jié)構(gòu)及成分分析 97
3.5.3 力學(xué)性能分析 104
參考文獻 106
第4章 難熔高熵合金粉體制備與增材制造技術(shù) 109
4.1 噴霧造粒+射頻等離子體球化法 109
4.1.1 噴霧造粒法制備NbMoTaWZr難熔高熵合金球形粉末 110
4.1.2 噴霧造粒法制備(NbMoTaWZr)98(HfC)2難熔高熵合金球形粉末 120
4.2 機械破碎+射頻等離子體球化法 130
4.3 等離子旋轉(zhuǎn)電極霧化法 139
4.3.1 等離子旋轉(zhuǎn)電極霧化法機理和特點 140
4.3.2 等離子旋轉(zhuǎn)電極霧化法在難熔高熵合金球形粉末加工中的應(yīng)用 142
4.4 難熔高熵合金激光成形技術(shù) 146
參考文獻 158
第5章 難熔高熵合金薄膜制備技術(shù) 161
5.1 難熔高熵合金薄膜研究概述 161
5.2 難熔高熵合金薄膜制備方法 162
5.3 難熔高熵合金薄膜性能特點 164
5.3.1 力學(xué)性能 164
5.3.2 熱穩(wěn)定性能 180
5.3.3 耐腐蝕性能 181
5.3.4 抗輻照性能 183
5.4 難熔高熵合金薄膜的應(yīng)用前景 186
參考文獻 186
第6章 難熔高熵合金的高溫氧化與防護 189
6.1 難熔高熵合金的高溫氧化行為 189
6.1.1 幾種典型難熔高熵合金的高溫氧化行為 191
6.1.2 合金化法提高難熔高熵合金的抗氧化性能 195
6.2 難熔高熵合金表面抗氧化涂層技術(shù) 201
6.2.1 包埋滲鋁涂層 202
6.2.2 包埋滲硅涂層 204
6.2.3 料漿燒結(jié)硅化物涂層 208
參考文獻 211